Mục tiêu phún xạ titan

 

Mục tiêu phún xạ Titan là vật liệu phủ quan trọng được sử dụng trong quy trình PVD (Lắng đọng hơi vật lý) cho các thiết bị bán dẫn, màn hình phẳng, lớp phủ quang học, phương tiện lưu trữ dữ liệu và xử lý bề mặt trang trí. Chất lượng của mục tiêu ảnh hưởng trực tiếp đến độ tinh khiết của màng, độ ổn định lắng đọng, tạo hạt và hiệu suất lớp phủ cuối cùng. China Super Tech Co., Ltd. sản xuất-các mục tiêu titan có độ tinh khiết cao bằng cách nấu chảy chân không, rèn chính xác và các quy trình gia công được kiểm soát để đảm bảo cấu trúc vi mô đồng nhất, phân bố hạt đồng nhất và hoạt động phún xạ ổn định, giúp khách hàng đạt được chất lượng lớp phủ cao hơn, cải thiện việc sử dụng mục tiêu và giảm thời gian ngừng sản xuất.

 

 

1. Độ tinh khiết cao cho hiệu suất màng mỏng ổn định
Chúng tôi cung cấp mức độ tinh khiết lên tới 99,995%, được sản xuất từ ​​nguyên liệu titan thô được lựa chọn cẩn thận và được tinh chế thông qua quy trình nấu chảy chân không. Hàm lượng tạp chất thấp hơn giúp giảm thiểu ô nhiễm trong quá trình lắng đọng, điều này đặc biệt quan trọng đối với các ứng dụng bán dẫn, quang học và điện tử đòi hỏi tính toàn vẹn màng cao.

2.Cấu trúc hạt đồng nhất để phún xạ nhất quán
Thông qua nhiều-giai đoạn rèn và xử lý cơ-nhiệt, vi cấu trúc bên trong trở nên đồng nhất hơn so với vật liệu đúc thông thường. Sự phân bố hạt đồng đều làm giảm xói mòn cục bộ, cải thiện tính đồng nhất của phún xạ và giúp duy trì tốc độ lắng đọng ổn định trong suốt vòng đời mục tiêu.

3. Tạo hạt thấp
Các khuyết tật bề mặt và sự không nhất quán về cấu trúc vi mô là nguyên nhân phổ biến gây ra sự hình thành hạt trong quá trình phún xạ. Quy trình gia công chính xác và hoàn thiện bề mặt của chúng tôi giúp giảm mật độ khuyết tật, giúp khách hàng giảm mức độ ô nhiễm hạt và cải thiện năng suất sản xuất.

4. Độ tin cậy liên kết mạnh mẽ
Đối với các mục tiêu được liên kết, chúng tôi sử dụng các công nghệ liên kết được kiểm soát và quy trình kiểm tra bề mặt nghiêm ngặt để đạt được độ dẫn nhiệt và tản nhiệt tuyệt vời. Điều này giúp giảm ứng suất nhiệt trong các hoạt động phún xạ công suất-cao và kéo dài tuổi thọ mục tiêu.

5. Sử dụng vật liệu cao
Độ chính xác về kích thước được tối ưu hóa và đặc tính xói mòn đồng đều cho phép tiêu thụ mục tiêu hiệu quả hơn trước khi thay thế, giảm chi phí lớp phủ tổng thể và cải thiện thời gian hoạt động của thiết bị.

 

 

1.Sản xuất chất bán dẫn
Màng titan được sử dụng rộng rãi làm lớp bám dính và lớp rào cản trong các mạch tích hợp. Các mục tiêu có-độ tinh khiết cao giúp giảm các khuyết tật liên quan đến tạp chất-, trong khi hoạt động phún xạ đồng đều hỗ trợ kiểm soát độ dày màng chính xác cần thiết cho chế tạo chất bán dẫn tiên tiến.

2. Lớp phủ quang học
Lớp phủ gốc titan{0}}được sử dụng trong thấu kính, bộ lọc và các bộ phận quang học. Thành phần mục tiêu ổn định góp phần tạo ra các đặc tính quang học nhất quán, bao gồm độ phản xạ, độ truyền qua và kiểm soát chỉ số khúc xạ trên các lô sản xuất lớn.

3. Sản xuất màn hình phẳng
Các nhà sản xuất màn hình yêu cầu lớp phủ đồng nhất trên diện tích bề mặt lớn. Các vi cấu trúc mục tiêu đồng nhất hỗ trợ lắng đọng màng đồng đều, giúp cải thiện tính nhất quán của màn hình và giảm sự biến đổi lớp phủ trên các tấm nền.

4. Phương tiện lưu trữ dữ liệu
Thiết bị lưu trữ từ tính phụ thuộc vào cấu trúc màng mỏng-được kiểm soát chặt chẽ. Các mục tiêu có mật độ-cao và-khiếm khuyết thấp góp phần mang lại chất lượng phim tốt hơn và nâng cao hiệu suất ghi.

5. Lớp phủ trang trí và chức năng
Lớp phủ titan cung cấp khả năng chống mài mòn, chống ăn mòn và bề mặt hoàn thiện hấp dẫn. Hiệu suất phún xạ ổn định đảm bảo độ dày lớp phủ và màu sắc đồng đều cho các sản phẩm tiêu dùng và công nghiệp.

 

 

1. Mức độ tinh khiết tùy chỉnh
China Super Tech Co., Ltd. có thể cung cấp nhiều loại độ tinh khiết khác nhau tùy theo yêu cầu của quy trình phủ, cân bằng giữa mục tiêu hiệu suất và ngân sách dự án.

2. Kích thước và hình dạng linh hoạt
Có sẵn ở các hình dạng hình tròn, hình chữ nhật, quay, phẳng và{0}}do khách hàng thiết kế. Khả năng gia công chính xác cho phép dung sai kích thước chặt chẽ để tương thích với các hệ thống phún xạ chính.

3.Giải pháp tấm liên kết và tấm lót
Chúng tôi cung cấp các cụm mục tiêu được liên kết hoàn chỉnh với các vật liệu và cấu hình tấm nền tùy chỉnh để phù hợp với các yêu cầu thiết bị cụ thể.

4. Kỹ thuật kết cấu hạt được kiểm soát
Không giống như các nhà cung cấp chỉ tập trung vào hóa học, chúng tôi tối ưu hóa tỷ lệ giảm rèn và các thông số xử lý nhiệt để đạt được cấu trúc hạt được kiểm soát nhằm cải thiện tính đồng nhất của quá trình phún xạ và việc sử dụng mục tiêu.

5. Tài liệu chất lượng đầy đủ
Tài liệu có sẵn bao gồm báo cáo thành phần hóa học, hồ sơ kiểm tra kích thước, báo cáo thử nghiệm siêu âm, chứng chỉ vật liệu và yêu cầu chất lượng tùy chỉnh cho ngành công nghiệp bán dẫn và điện tử.

 

 

tham số	Đặc điểm kỹ thuật
Vật liệu	Titan nguyên chất
độ tinh khiết	99.5% – 99.995%
Quy trình sản xuất	Nóng chảy chân không + Rèn + Gia công chính xác
Tùy chọn hình dạng	Tròn, hình chữ nhật, quay, tùy chỉnh
Tỉ trọng	Lớn hơn hoặc bằng 99% Mật độ lý thuyết
Cấu trúc hạt	Đẹp và đồng đều
Hoàn thiện bề mặt	Gia công chính xác
Tùy chọn liên kết	Liên kết Indium / Liên kết đàn hồi / Tùy chỉnh
Phạm vi đường kính	Lên đến 500 mm
Phạm vi chiều dài	tùy chỉnh
Phạm vi độ dày	tùy chỉnh
Dung sai kích thước	Theo yêu cầu của khách hàng
Phương pháp kiểm tra	Phân tích hóa học, Kiểm tra UT, Kiểm tra kích thước
Sự tuân thủ	Thông số kỹ thuật của khách hàng và tiêu chuẩn ASTM B265

 

 

 

Chú phổ biến: mục tiêu phún xạ titan, nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy mục tiêu phún xạ titan Trung Quốc